Wafer Safir 12 Inci pikeun Manufaktur Semikonduktor Volume Tinggi

Pedaran Singkat:

Wafer safir 12 inci dirancang pikeun minuhan paménta anu terus ningkat pikeun manufaktur semikonduktor sareng optoelektronik anu lega, throughput tinggi. Nalika arsitéktur alat terus ningkat sareng jalur produksi nuju format wafer anu langkung ageung, substrat safir kalayan diaméter ultra-ageung nawiskeun kaunggulan anu jelas dina produktivitas, optimasi hasil, sareng kontrol biaya.

Kirim email ka kami

Fitur

Diagram Lengkep

Bubuka wafer safir 12 inci

Diproduksi tina Al₂O₃ kristal tunggal anu luhur kamurnianna, wafer safir 12 inci kami ngagabungkeun kakuatan mékanis anu saé, stabilitas termal, sareng kualitas permukaan. Ngaliwatan kamekaran kristal anu dioptimalkeun sareng pamrosésan wafer anu presisi, substrat ieu nganteurkeun kinerja anu tiasa dipercaya pikeun LED canggih, GaN, sareng aplikasi semikonduktor khusus.

Karakteristik Bahan

Safir (aluminium oksida kristal tunggal, Al₂O₃) kawentar ku sipat fisik sareng kimia anu luar biasa. Wafer safir 12 inci ngawaris sadaya kaunggulan bahan safir bari nyayogikeun luas permukaan anu langkung ageung.

Ciri-ciri bahan konci kalebet:

Karasa pisan sareng résistansi kana ngagem
Stabilitas termal anu saé sareng titik lebur anu luhur
Résistansi kimiawi anu unggul kana asam sareng alkali
Transparansi optik anu luhur ti panjang gelombang UV ka IR
Sipat insulasi listrik anu saé

Ciri-ciri ieu ngajantenkeun wafer safir 12 inci cocog pikeun lingkungan pamrosésan anu kasar sareng prosés manufaktur semikonduktor suhu luhur.

Prosés Manufaktur

Produksi wafer safir 12 inci meryogikeun kamekaran kristal anu canggih sareng téknologi pamrosésan anu ultra-presisi. Prosés manufaktur anu umum kalebet:

Tumuwuhna Kristal Tunggal
Kristal safir anu mibanda kamurnian luhur dipelak nganggo metode canggih sapertos KY atanapi téknologi kamekaran kristal diaméter ageung anu sanés, pikeun mastikeun orientasi kristal anu seragam sareng setrés internal anu handap.
Ngabentuk sareng Ngiris Kristal
Ingot safir dibentuk sacara presisi sareng diiris janten wafer 12 inci nganggo alat motong anu akurat pisan pikeun ngaminimalkeun karusakan di handapeun permukaan.
Ngalap sareng Ngapoles
Prosés lapping sababaraha léngkah sareng pemolesan mékanis kimiawi (CMP) diterapkeun pikeun ngahontal kakasaran permukaan, kerataan, sareng keseragaman ketebalan anu saé.
Beberesih sareng Inspeksi
Unggal wafer safir 12 inci ngalaman beberesih anu saksama sareng pamariksaan anu ketat, kalebet kualitas permukaan, TTV, busur, lungsin, sareng analisis cacad.

Aplikasi

Wafer safir 12 inci seueur dianggo dina téknologi canggih sareng anu nembé muncul, kalebet:

Substrat LED anu kakuatanna luhur sareng kacaanganna luhur
Alat daya berbasis GaN sareng alat RF
Pamawa parabot semikonduktor sareng substrat insulasi
Jandéla optik sareng komponén optik daérah anu lega
Bungkusan semikonduktor canggih sareng pamawa prosés khusus

Diaméter anu ageung ngamungkinkeun throughput anu langkung luhur sareng ningkatkeun efisiensi biaya dina produksi massal.

Kaunggulan Wafer Safir 12 Inci

Area anu langkung ageung pikeun output alat anu langkung luhur per wafer
Konsistensi sareng keseragaman prosés anu ningkat
Ngurangan biaya per alat dina produksi volume luhur
Kakuatan mékanis anu saé pikeun penanganan ukuran ageung
Spésifikasi anu tiasa disaluyukeun pikeun aplikasi anu béda-béda

Pilihan Kustomisasi

Kami nawiskeun kustomisasi fléksibel pikeun wafer safir 12 inci, kalebet:

Orientasi kristal (bidang-C, bidang-A, bidang-R, jsb.)
Toleransi ketebalan sareng diaméter
Poles hiji sisi atanapi dua sisi
Desain profil ujung sareng talang
Sarat karasana sareng kerataan permukaan

Parameter	Spésifikasi	Catetan
Diaméter Wafer	12 inci (300 mm)	Wafer diaméter ageung standar
Bahan	Safir Kristal Tunggal (Al₂O₃)	Kamurnian luhur, kelas éléktronik/optik
Orientasi Kristal	Pesawat C (0001), pesawat A (11-20), pesawat R (1-102)	Orientasi opsional sayogi
Kandel	430–500 μm	Ketebalan khusus sayogi upami dipénta
Toleransi Kandel	±10 μm	Toleransi anu ketat pikeun alat canggih
Variasi Kandel Total (TTV)	≤10 μm	Mastikeun pamrosésan anu seragam di sakumna wafer
Busur	≤50 μm	Diukur di sakumna wafer
Bengkok	≤50 μm	Diukur di sakumna wafer
Beungeut Rengse	Dipoles hiji sisi (SSP) / Dipoles dua sisi (DSP)	Permukaan kualitas optik anu luhur
Kasar Beungeut (Ra)	≤0.5 nm (dipoles)	Kehalusan tingkat atom pikeun pertumbuhan epitaksial
Profil Tepi	Talang / Tepi buleud	Pikeun nyegah chipping nalika penanganan
Akurasi Orientasi	±0.5°	Mastikeun tumuwuhna lapisan epitaksial anu leres
Kapadatan Cacad	<10 cm⁻²	Diukur ku pamariksaan optik
Karataan	≤2 μm / 100 mm	Mastikeun litografi anu seragam sareng pertumbuhan epitaksial
Kabersihan	Kelas 100 – Kelas 1000	Cocog sareng kamar bersih
Transmisi Optik	>85% (UV–IR)	Gumantung kana panjang gelombang sareng ketebalan

FAQ Wafer Safir 12 Inci

Q1: Sabaraha ketebalan standar wafer safir 12 inci?
A: Ketebalan standarna ti mimiti 430 μm dugi ka 500 μm. Ketebalan khusus ogé tiasa diproduksi numutkeun sarat konsumén.

Q2: Orientasi kristal naon waé anu sayogi pikeun wafer safir 12 inci?
A: Kami nawiskeun orientasi C-plane (0001), A-plane (11-20), sareng R-plane (1-102). Orientasi sanésna tiasa disaluyukeun dumasar kana sarat alat khusus.

Q3: Sabaraha variasi ketebalan total (TTV) tina wafer éta?
A: Wafer safir 12 inci urang biasana gaduh TTV ≤10 μm, mastikeun keseragaman di sakumna permukaan wafer pikeun fabrikasi alat anu kualitasna luhur.

Tentang Kami

XKH spesialisasi dina pamekaran téknologi luhur, produksi, sareng penjualan kaca optik khusus sareng bahan kristal énggal. Produk kami ngalayanan éléktronik optik, éléktronik konsumen, sareng militer. Kami nawiskeun komponén optik Safir, panutup lénsa telepon sélulér, Keramik, LT, Silicon Carbide SIC, Kuarsa, sareng wafer kristal semikonduktor. Kalayan kaahlian anu terampil sareng peralatan canggih, kami unggul dina pamrosésan produk non-standar, tujuanana janten perusahaan téknologi luhur bahan optoéléktronik anu unggul.